Atomic layer epitaxy growth of titanium, zirconium and hafnium dioxide thin films

Atomic layer epitaxy growth of titanium, zirconium and hafnium dioxide thin films

datePublished

• 1994

description

• kuvitettu
• Nimiösivulla myös: University of Helsinki, Department of Chemistry, Laboratory of Inorganic Chemistry
• Nimiösivulla myös: University of Helsinki, Department of Chemistry, Laboratory of Inorganic Chemistry. - Tiivistelmä ja 7 erip. - Tiivistelmä ilm. myös erillisenä
• Tiivistelmä ja 7 erip. - Tiivistelmä myös erillisenä. - Nimiösivulla myös: University of Helsinki, Department of Chemistry, Laboratory of Inorganic Chemistry

identifier

• propertyID: FI-FENNI value: 375875
• propertyID: FI-MELINDA value: 005569803
• propertyID: skl value: fx375875

isbn

• 9514107551

isPartOf

• Annales Academiae scientiarum Fennicae. Dissertationes humanarum litterarum
• Fennica

name

• Atomic layer epitaxy growth of titanium, zirconium and hafnium dioxide thin films

numberOfPages

• 48, [62] sivu

P60048

• <http://rdaregistry.info/termList/RDACarrierType/1049>

P60050

• <http://rdaregistry.info/termList/RDAMediaType/1007>

publication

• location: Helsinki organizer: Suomalainen tiedeakatemia

publisher

• Suomalainen tiedeakatemia