Diffusion barriers in semiconductor contact metallization

Diffusion barriers in semiconductor contact metallization

datePublished

• 1988

description

• kuvitettu
• Tiivistelmä ja 7 erip.

identifier

• propertyID: FI-FENNI value: 63336
• propertyID: FI-MELINDA value: 000038273
• propertyID: skl value: fx63336

isbn

• 9513831205

isPartOf

• Fennica
• Helsingin kauppakorkeakoulun julkaisusarja. C

name

• Diffusion barriers in semiconductor contact metallization

numberOfPages

• 33, [90] s.

P60048

• <http://rdaregistry.info/termList/RDACarrierType/1049>

P60050

• <http://rdaregistry.info/termList/RDAMediaType/1007>

publication

• location: Espoo Hki organizer: Valtion painatuskeskus [jakaja Valtion teknillinen tutkimuskeskus. Puolijohdelaboratorio

publisher

• Valtion painatuskeskus [jakaja
• Valtion teknillinen tutkimuskeskus. Puolijohdelaboratorio